硅酸盐学报

N~+注入Ti/Si_3N_4的摩擦行为研究

作者：田军杨晓鸿陈玉峰王齐祖薛群基

单位：中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放实验室兰州大学材料科学系中国建筑材料科学研究院技术陶瓷研究所

分类号：TQ174.758.12

出版年,卷(期):页码：1998,26(2):0-0

DOI：

摘要：

研究了Ｓｉ３Ｎ４陶瓷材料及镀膜Ｔｉ／Ｓｉ３Ｎ４材料当Ｎ＋注入前后的摩擦学行为，考察了样品表面划痕轨迹的ＳＥＭ形貌，结合Ｘ射线衍射，对离子注入改性机理和摩擦学性能进行了探讨．在Ｔｉ和Ｓｉ３Ｎ４界面上离子的混合及形成Ｔｉ２Ｎ相使Ｔｉ膜的附着力增加

In this paper, the tribological properties of Si3N4 and Ti/Si3N4 implanted by N ions are studied. The topography of implanting and scratching trace were examined using SEM. By X-ray diffraction for the implanted thin film, the new phase of Ti2N on Ti/Si3N4 layer by N+ implantation was shown. The wear and friction mechanism are also discussed in the paper. Ion beam mixing of interface improves the adhesion between Ti film and Si3N4 substrate.

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参考文献：

1薛群基，刘惠文．陶瓷摩擦学．摩擦学学报，1995；15（4）：3762KatoK．Tribologyofceramics．Wear，1990；136：1173王齐祖，陈玉峰．离子束混合及离子注入陶瓷表面改性研究概述．核技术，1994；17（9）：5694王齐祖，陈玉峰，王维洁等．离子束混合增强陶瓷基体上金属薄膜附着力的研究．核技术，1997；20（1）：13

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