A/B位离子掺杂BiFeO3纳米薄膜的微结构与铁电性能

作者：韩亚洁1 2 钱 进1 2 王建荣2 林秀娟1 杨长红1 黄世峰1

单位：1. 济南大学 山东省建筑材料制备与测试技术重点实验室

关键词：薄膜 铁酸铋 离子掺杂 微结构 铁电性

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出版年,卷(期):页码：2021,49(3):511-518

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摘要：

采用化学溶液法结合层层旋涂退火工艺，在掺氟氧化锡导电玻璃基片上制备了BiFe0.95Mn0.05O3和Bi0.9Nd0.1FeO3纳米晶铁电薄膜，并分析比较了其微结构和铁电性能。结果表明：2组分样品均为单相多晶钙钛矿结构，晶粒细小均匀，表面平整，结构致密。两薄膜均获得了饱和电滞回线，且BiFe0.95Mn0.05O3薄膜具有向上的择优取向极化和更优异的铁电性能，其剩余极化强度(Pr)达60 ?C·cm–2，在1~50 kHz频率范围与25~200 ℃温度区间内铁电极化响应稳定，保持时间长达1?103 s工作与反复极化翻转高达1?109次表现出优异的电荷保持力和抗疲劳稳定性。

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